上海微電子
上海微電子裝備(集團)股份有限公司(簡稱SMEE)是中國大陸半導體裝備製造商,主要生產半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發、設計、製造、銷售及技術服務[1]。
上海微電子裝備(集團)股份有限公司 | |
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Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. | |
公司類型 | 上市公司 |
成立 | 2002年 |
總部 | 中華人民共和國上海市浦東新區張東路1525號 |
產業 | 半導體產業 |
產品 | 半導體 光刻系統 |
母公司 | 上海張江高科技園區開發股份有限公司 |
網站 | www |
沿革
2018年,上海微電子裝備所能投產的光刻機製程為90nm[2],後於有傳聞更精良的28nm光刻機製程據聞將於2021年首季投入使用[3][4][5],但亦未確定28nm機型的量產能力,由於過去未如外國廠商集合商業聯盟進行聯合開發,在科研單位與業界支持力道不足下,因而銷售市佔主要僅在中低端光刻機與相關設備[6][7],但隨著美國向中國大陸禁運光刻機,中國國產光刻機的發展被廣受關注[8]。
但2021年國產DUV並沒有問世,據《第一財經》報導,近日發布的《中國集成電路產業人才發展報告(2020-2021年版)》顯示中國大陸半導體人才短缺高達20餘萬人,中國大陸半導體產業的情況並不樂觀[9]。
2022年7月7日,上海微電子舉行了首台2.5D/3D先進封裝光刻機的交付儀式,但該機器是用於芯片下游製造的先進封裝光刻機,並非此前關注的用於芯片上游製造的光罩光刻機[10]。但涉及中低階裝備、材料、檢測的國產化進度可期,不少必要的下游合作同行,也正在逐漸攻克國產產業鏈[11]。現今,上海微電子裝備生產的先進封裝光刻機在中國大陸的市占率達80%,海外市佔率達40%[10]。
到了2023年5月開始,不少網路消息聲稱更精良的首部先進光刻機研製終於進入尾聲,編號為"SSA/800-10W",據聞最快將於2023年末組裝[12][13][14],但是並沒有更多證據流出,直到後來上海張江集團的一篇文章出台確認此機器為真,該相關企業為公司第四大股東與國有企業之一,表示上海微電已經開發出了中國首家28nm技術,但報導很快遭到修改。[15][16]
2024年9月,一款「氟化氬光刻機」,出現在重大技術裝備推廣應用指導目錄,初代樣機可能準備要進入下游廠商開始試驗反饋,不過中國官方與廠商沒有宣布進一步消息,良率也未知,但已經引發網民振奮,不過業內人士稱數據上採用193nm光源,65納米以下分辨率,套刻能力8nm(非多重曝光[17][18])的光刻機,暫時還沒有可能實現先進工藝[19][20]。從業多年的前台積電工程師吳梓豪指出,根據從業者那邊知道的內情研判,大致上略弱於15年前的DUV乾式曝光機「TWINSCAN XT 1450」,代入角解析度公式測算儀器NA值只有0.75左右,離38nm以下精密度的機型是還有一定的差距的,光源功率不足,使得大規模量產更是不切實際,不過這是134nm浸潤式光刻的基礎,加上在製程配合試錯,可以考慮從65nm這個節點開始加速追趕[21],唯文章已經被撤下。半導體產業方面智庫表示,應該減少短期宣傳,例如反觀日本尼康睽違二十年,用了本土的技術真正做出了全日系的浸潤式機台「NSR-S636E」,但幾乎沒有大張旗鼓宣揚,有國產的機器跟拿來製造是兩回事,畢竟廠家明白包含氣泡產生、溫度影響密度與流體穩定對光折射等等技術難點都沒解決,從試產到能商業化量產的地步,過程一定是沉穩且漫長的[22][23]。電子行業分析師劉翔認為半導體太燒錢,補貼投入只是杯水車薪,需要著重經營模式投資才能取得長久效益,先專注成熟節點做到盈利反哺研發,是比較可行的選擇[24],經濟分析師楊應超在世界週報節目中稱,雖然客戶中芯有比較先進可以參考的進口技術經驗,加上國產光刻機終於開始測試,但中國大陸須走過45nm、32nm等等8個世代的這個差距是繞不開的[25],而預期到迭代出全國產28奈米節點的程度,最快至少也是5年起跳,可能要到2030年代[26][27]。
光刻機產品
參見
參考來源
- ^ 发展历程. [2018-11-07]. (原始內容存檔於2020-10-05).
- ^ 由国内三台光刻机开始的一些思考. [2018-11-07]. (原始內容存檔於2018-11-07).
- ^ 上海微電子28nm光刻機明年交付!意義何在?. [2020-06-07]. (原始內容存檔於2020-12-07).
- ^ 國內28nm光刻機有望明年出貨,離半導體自給自足又近了一步. [2020-12-07]. (原始內容存檔於2022-02-11).
- ^ China's 28nm-Capable Chip Fabbing Tool on Track Amid Trade War. [2020-12-06].
- ^ 為什麼光刻機比原子彈還難造?. [2021-01-28]. (原始內容存檔於2021-02-04).
- ^ 讲述上海微电子的故事,还原国产28nm光刻机真相. [2021-03-16]. (原始內容存檔於2021-01-23).
- ^ 觀點投書:中國向光刻機急起直追. [2020-12-22]. (原始內容存檔於2021-01-04).
- ^ 發展半導體產業 大陸未來兩年至少還缺20萬人才. [2021-11-18]. (原始內容存檔於2021-11-18).
- ^ 10.0 10.1 10.2 10.3 聯合報記者黃雅慧. 上海微電子小躍進 新一代「先進封裝光刻機」交付. 聯合新聞網. 2022-02-08 [2022-07-27]. (原始內容存檔於2022-07-27) (中文(臺灣)).
- ^ 中國晶片業擴張迅速 首台國產28奈米浸潤式光刻機有望年底交付 | Anue鉅亨 - A股. news.cnyes.com. [2024-09-15] (中文(臺灣)).
- ^ 中國首台28nm光刻機到底有沒有出爐?聽起來有點太玄乎. [2023-05-09]. (原始內容存檔於2023-08-07).
- ^ 國產光刻機有望取得突破 首台國產28nm工藝沉浸式光刻機最快年底交付. [2023-08-03]. (原始內容存檔於2023-08-07).
- ^ Chinese firm expected to deliver 28nm chip machine at year-end: media report. [2023-08-01]. (原始內容存檔於2023-10-09).
- ^ 聯合早報. 上海微電子據報成功研製出中國首台28納米光刻機. 香港01. 2023-12-20 [2024-09-15] (中文(香港)).
- ^ 上海微电子据报成功研制出中国首台28纳米光刻机 | 联合早报. www.zaobao.com.sg. [2024-09-15] (中文(簡體)).
- ^ 大型科普:多曝工艺究竟是如何超过光刻机的极限分辨率???. 華爾街見聞. 2023-08-31.
- ^ 全新国产DUV光刻机曝光:“套刻≤8nm”是个什么水平?. tech.ifeng.com. [2024-09-20] (中文).
- ^ 星島日報. 中國研發出國產DUV曝光機 可產8納米及以下晶片. std.stheadline.com. 2024-09-15 [2024-09-15] (中文(香港)).
- ^ Storm.mg. 突破美國、ASML封鎖?中國實現國產DUV曝光機 可生產8奈米及以下晶片-風傳媒. www.storm.mg. 2024-09-15 [2024-09-15] (中文(臺灣)).
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- ^ 盧伯華. 頭條揭密》陸晶片產業遭「卡脖子」 買到光刻機也難解決.
- ^ 騰訊網. 国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?_腾讯新闻. news.qq.com. 2024-09-18 [2024-09-20] (中文(中國大陸)).
- ^ cnBeta. 光刻机的自嗨与自知,根源在于产业机制 - 视点·观察. cnBeta.COM. [2024-09-20] (中文(中國大陸)).
- ^ Storm.mg. 中國成功自產光刻機舉國歡騰 楊應超曝真相:落後台積電整整8個世代-風傳媒. www.storm.mg. 2024-09-24 [2024-09-25] (中文(臺灣)).
- ^ 美国梭哈,日荷跟进,中国芯片奋力一搏还是盖牌走人?. m.chinaaet.com. [2024-09-20].
- ^ 騰訊網. 国产光刻机突破28nm了吗_腾讯新闻. news.qq.com. 2024-09-18 [2024-09-20] (中文(中國大陸)).
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