胡正明
美籍華裔電機工程學家
胡正明（1947年7月12日—），生于中华民国北平市，籍贯江苏金坛[1]，美籍华裔微电子学、电机工程学家，柏克莱加州大学教授，原台积电技术首席执行官。
| 胡正明 Chenming Calvin Hu | |
|---|---|
 | |
| 出生 | 1947年7月12日 中华民国北平市 |
| 居住地 |  美国 |
| 国籍 | 中华民国 |
| 母校 | 国立台湾大学 柏克莱加州大学 |
| 科学生涯 | |
| 研究领域 | 电子工程 |
| 机构 | 柏克莱加州大学 |
| 备注 | |
| |
生平
胡正明于1947年出生于北京，于襁褓中随家人前往台湾。
1968年毕业于国立台湾大学电机工程系，后赴美国留学。先后于1970年、1973年获柏克莱加州大学硕士、博士学位，毕业后前往麻省理工学院任助理教授。1976年起，任教于柏克莱加州大学电子工程与计算机科学系。
1996年，创办思略微电子有限公司（Celestry Design Technologies, Inc.），兼任董事长。2001年至2004年间，担任台积电首任技术执行长，兼任柏克莱加州大学台积电杰出讲座教授。2004年后回校任教。2008年起，任SanDisk公司董事[2][3][4]。2020年起，成为人机界面大厂敦泰电子董事。
奖项和荣誉
胡正明是电气电子工程师学会（IEEE）会士（1989年）、美国国家工程院院士（1997年）、中央研究院院士（2004年）、工业技术研究院院士（2016年）、中国科学院外籍院士（2007年），并且是国立交通大学、中国科学院微电子所、清华大学等院校荣誉教授。他拥有百余项专利，发表过900篇论文，还曾获得过R&D100奖（1996年）、IEEE Jack Morton奖（1997年）、潘文渊基金会杰出研究奖（1999年）、IEEE固态电路奖（2002年）、IEEE Paul Rappaport奖（2003年）、IEEE西泽润一奖（2009年）、美国亚裔工程师（AAEOY）杰出终身成就奖（2011年）、美国国家科学奖章（2016年）等奖项、IEEE荣誉奖章（2020年）[2][5]、2022-2023年“应用科学组”总统科学奖[6]。
参考资料
- ^ 胡正明博士回鄉参加“胡素鸿銅像揭幕儀式”. 中国侨网. 2005-04-21 [2011-10-17]. （原始内容存档于2020-08-05）.
- ^ 2.0 2.1 Chenming Calvin Hu. University of California at Berkeley. [2011-10-17]. （原始内容存档于2016-05-01） （英语）.
- ^ 台積公司技術長胡正明博士請辭獲准並將重返校園任教. 台积电. 2004-06-11 [2011-10-17]. （原始内容存档于2017-04-20）.
- ^ 胡正明. 中央研究院. [2011-10-17]. （原始内容存档于2017-04-20）.
- ^ 2007年當選外籍院士：胡正明. 人民网中国两院院士数据库. [2011-10-17]. （原始内容存档于2012-06-04）.
- ^ 温贵香. 總統科學獎得主出爐 葉永烜、李文雄、胡正明獲獎. 中央社. [2023-09-16]. （原始内容存档于2023-09-20） （中文（台湾））.