國際半導體技術發展藍圖

國際半導體技術發展路線圖（International Technology Roadmap for Semiconductors，縮寫為 ITRS），是由世界上五個主要的半導體製造國家的相關協會所資助的組織，這些組織包括台灣、韓國、日本、美國和歐洲的半導體行業協會。 許多半導體產業專家組成工作小組每年進行數次討論，並提出一些報告與文檔，以期集成電路與其應用的相關產業能更有成本效益的健全發展。

該路線圖文件含有免責聲明：「ITRS的設計僅用於技術評估，並不考慮與單個產品或設備有關的任何商業應用」。

這些文件代表了以下技術領域對未來約15年的研究方向和時間表的最佳意見：

• 系統驅動程式/設計
• 測試設備
• 前段製程
• 流程集成，設備和結構
• 射頻和模擬/混合訊號技術
• 微機電系統 (MEMS)
• 微影
• IC互連
• 工廠整合
• 組裝與包裝
• 環境，安全與健康
• 可製造性設計
• 計量學
• 建模和模擬
• 新興研究設備
• 新興研究資料

截至2017年，國際半導體技術發展藍圖(ITRS)不再更新。它的繼任者是國際設備和系統路線圖(IRDS)，從而全面地反應各種系統級新技術。

Half-shrink

主節點	半節點
250 nm	220 nm
180 nm	150 nm
130 nm	110 nm
90 nm	80 nm
65 nm	55 nm
45 nm	40 nm
32 nm	28 nm
22 nm	20 nm
14 nm	16 nm
10 nm	11 nm

歷史

製造集成電路或任何半導體元件都需要一系列操作-微影、蝕刻、CVD等。隨着行業的發展，每一個步驟通常都是由各個公司製造的專用機器執行的。這種專業化可能使該行業難以發展，因為如果所需的步驟無法在同時完成，則不利於一家公司推出新產品。技術路線圖可以通過在需要某種功能時給出一個想法來幫助實現此一目標。然後，每個供應商都可以為他們的難題指定這個日期。

隨着生產製造工具逐漸外包專用設備供應商，出現了明確的路線圖，以預測市場的發展來計劃和控制IC生產的技術需求。幾年來，半導體工業協會（SIA）將此協調職責賦予了美國，這導致了美國風格路線圖的製定，即國家半導體技術路線圖（NTRS）。

另見

• 技術路線
• 摩爾定律
• 半導體製程
• 準分子激光

外部連結

• ITRS 2.0 主頁（頁面存檔備份，存於互聯網檔案館）
• ITRS 主頁